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日立、40Gbpsの光トランシーバーの薄型化に成功

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　日立製作所中央研究所は21日、40Gbpsの光トランシーバーの薄型化に成功したと発表した。情報通信研究機構の委託研究の一環として開発されたもの。これにより、光トランシーバーが、通信装置内に高密度で搭載できるようになる。
　日立製作所中央研究所は21日、40Gbpsの光トランシーバーの薄型化に成功したと発表した。情報通信研究機構の委託研究の一環として開発されたもの。これにより、光トランシーバーが、通信装置内に高密度で搭載できるようになる。 全 1 枚
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　日立製作所中央研究所は21日、40Gbpsの光トランシーバーの薄型化に成功したと発表した。情報通信研究機構の委託研究の一環として開発されたもの。これにより、光トランシーバーが、通信装置内に高密度で搭載できるようになる。

　この光トランシーバーは、ビル内や構内に設置されているルータなどの間を、光ファイバで接続するためのもの。

　同社では、昨年、10Gbpsの装置を4つ並べ40Gbpsの通信を可能にした光レシーバーを試作した。しかし、これは高さが9mmであり、通信機器に高い密度で設置すると、空気の流れを妨げ冷却効率が十分に得られないという問題があったという。

　これを解消するため、6.5mmに薄型化。9mmの光トランシーバーと同じく100メートルの伝送路を40Gbpsで通信してもエラーフリーだった。

《安達崇徳》

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